반도체 플라즈마 세정이란 무엇인가요?
승인된 답변
반도체 플라즈마 세정의 정의
플라즈마 세정(Plasma Cleaning)은 고전압을 Ar과 N2 기체에 가하여 진공 환경에서 생성된 플라즈마를 이용하는 기술입니다. 이 과정을 통해 반도체 칩 및 기판의 표면에 존재하는 유기물질을 물리적으로 제거할 수 있으며, 이는 일종의 표면 에칭(Surface etching) 공정으로 간주됩니다.
반도체 플라즈마 세정이란 무엇인가요?
플라즈마 세정(Plasma Cleaning)은 고전압을 Ar과 N2 기체에 가하여 진공 환경에서 생성된 플라즈마를 이용하는 기술입니다. 이 과정을 통해 반도체 칩 및 기판의 표면에 존재하는 유기물질을 물리적으로 제거할 수 있으며, 이는 일종의 표면 에칭(Surface etching) 공정으로 간주됩니다.